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技術(shù)參數(shù)
主要特點 | 采用氣體作為清洗介質(zhì),避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。 |
可短時間內(nèi)*清洗掉有機污染物。 | |
清洗程度可達到分子級。 | |
可在特定條件下根據(jù)需要改變某些材料表面的性能。 | |
清洗過程中的輝光放電可對某些特殊用途的材料加強粘附性、相容性和浸潤性,并可消毒和殺菌. | |
樣品臺可選配加熱功能,可加負偏壓,用以實現(xiàn)離子蝕刻. | |
廣泛應用于光學,光電子學,電子學,材料科學,生命科學,高分子科學,生物醫(yī)學,微觀流體學等領(lǐng)域. | |
參數(shù) | 電壓:AC220V 10A |
消耗功率:<500W(包括真空泵) | |
RF電源:輸出功率100W,輸出頻率13.56MHz | |
腔體:Φ190mm×98mm | |
石英管:Φ180mm×55mm,壁厚7mm | |
內(nèi)腔:Φ165mm×55mm | |
清洗電極:Φ120mm | |
樣品臺:Φ150mm,有效尺寸Φ140mm | |
樣品臺與電極間距:15mm-50mm可調(diào) | |
抽氣管:Φ12mm | |
極限真空度:0.1Pa | |
工作真空度:60Pa-500Pa | |
氣路數(shù)量:2路(選裝) | |
流量控制器數(shù)量:1、2 | |
流量顯示儀:2通道 | |
氣路接口:Φ6mm | |
加熱樣品臺:Φ140mm,加熱樣品溫度RT-600℃±1℃(選裝) | |
冷卻水壓力:0.2KPa-0.4KPa | |
工作環(huán)境:溫度5℃-35℃,濕度<80%(相對濕度)不結(jié)露,海拔高度0-2000m | |
產(chǎn)品規(guī)格 | 尺寸:245mm×235mm×460mm(不含真空泵) |
重量:20kg(不含真空泵) | |
可選配置 | 加熱樣品臺 |
流量控制器(量程10、50、100,多可增加2個通道) |